偷拍走光 深圳“国度队”,重磅脱手!
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脱手便是重磅!
近日,深圳新凯来工业机器有限公司在其官微告示,将在3月底过问中国国外半导体展。这亦然该公司的初度亮相。
新凯来告示将在半导体展上发布多款新址品,包括EPI“峨眉山”居品、ETCH“武夷山”居品、CVD“长白山”居品、PVD“普陀山”居品、ALD“阿里山”居品,这些居品不错说皆是半导体制造工艺范围的“高端货”。分析东说念主士合计,新凯来有可能再度拉高中国科技的热度。
新凯来在其官微称,行动中枢半导体装备提供商,新凯来以本事改革为根基,英敢于先进半导体装备的开发与制造,为产业注入强劲动能。天眼查透露,新凯来工业机器背后大鼓励是新凯来本事有限公司,而新凯来本事的波折大鼓励是深圳市紧要产业投资集团,其董事长戴军亦是国度大基金二期的监事,亦然中芯国外集成电路制造(深圳)有限公司的董事。
行将亮相
在新凯来官微上,唯惟一条音问:新凯来邀您共赴SEMICON China 2025。这家玄妙且低调的中国高技术产业链上的伏击公司终于要走向台前。并且,新凯来将在这次亮相中展出重磅居品。
据悉,这次新凯来将展出EPI“峨眉山”居品、ETCH“武夷山”居品、CVD“长白山”居品、PVD(普陀山)居品、ALD“阿里山”居品等居品。EPI外延层是半导体制造中的伏击本事,尤其是在先进制程和第三代半导体范围。ETCH蚀刻是半导体制造工艺,微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的扫数荒谬伏击的活动。是与光刻相干连的图形化(pattern)处理的一种主要工艺,当今主要由国外主头主导;CVD化学气相千里积是半导体制造中需求量最大的开发之一,PVD物理气相千里积、ALD原子层千里积等皆是半导体制造工艺当中相当伏击的高端货。
低调的专利大户
此前,新凯来的曝光度相当低。网上大渊博音问皆是其专利信息。3月18日,国度学问产权局信息透露,深圳市新凯来工业机器有限公司苦求一项名为“反射结构、热放射单位及加热装配”的专利,公开号CN 119620268 A,苦求日历为2025年1月。
专利摘抄透露,该苦求波及光学开发本事范围,尤其波及到一种反射结构、热放射单位及加热装配。反射结构具有容纳槽,容纳槽具有第一侧壁、第二侧壁和与所述第一侧壁和所述第二侧壁相接的底壁,所述第一侧壁包括第一抛物面,所述第二侧壁包括第二抛物面,所述底壁包括第三抛物面,所述第三抛物面的焦距诀别大于所述第一抛物面的焦距和所述第二抛物面的焦距。本苦求中的反射结构占用的空间较小,且反射结构反射并集聚光辉的量较多,以提高反射结构的加热效果。
客岁12月,国度学问产权局信息透露,深圳市新凯来本事有限公司苦求一项名为“静电卡盘及工艺开发”的专利,公开号CN 119069414 A,苦求日历为2024年11月。
专利摘抄透露,本苦求波及工艺开发本事范围,尤其波及到一种静电卡盘及工艺开发。静电卡盘包括基底、第一绝缘介质层和第二绝缘介质层,第一绝缘介质层成就于基底上,第二绝缘介质层成就于第一绝缘介质层背离基底的一侧;其中,第一绝缘介质层内具有至少一个电极对,每个电极对包括一个正电极和一个负电极,第二绝缘介质层和第一绝缘介质层在基底的投影中,第二绝缘介质层的投影至少部分与一个电极对的投影交叠;第二绝缘介质层的电阻率小于第一绝缘介质层的电阻率。本苦求中的静电卡盘名义聚积的净电荷开释速较快,不错镌汰待加工器件从卡盘名义脱离的难度。
谁是新凯来?
过问上述展览的公司是新凯来工业机器有限公司,而其大鼓励是深圳市新凯来本事有限公司和深圳市均隆高新产业创业投资中心。新凯来工业机器和新凯来本事的法定代表东说念主皆是余海。
据新凯来本事的官网透露,该公司英敢于半导体装备及零部件、电子制造开发的研发、制造、销售与就业。为半导体行业客户提供改革本事与居品惩办决策,合手续援救行业健康发展。将国内最优秀的电子制造惩办决策和分娩测试装备推介给行业客户,促进产业能力提高。
公司中枢团队具备20年以上电子开发本事开发警告,并采集了广博国内半导体制造开发和零部件配结伴伴,为国内半导体开发厂、FAB厂、电子电器开发厂、征询机构提供先进的惩办决策,关连居品平方运用于国内顶级制造企业和征询、测试机构。
据天眼查,新凯来工业机器建设于2022年,注册本钱最初10亿元东说念主民币。而新凯来本事建设于2021年,企业注册本钱达15亿元东说念主民币,其大鼓励是深圳市深芯恒科技投资有限公司(控股100%),而深芯恒科技的大鼓励是深圳市紧要产业投资集团有限公司(控股100%),紧要产业投资集团的大鼓励则是深圳国资委。紧要产投的董事长戴军是国度集成电路产业投资基金二期股份有限公司的监事,亦然中芯国外集成电路制造(深圳)有限公司的董事。紧要产投的另一位高管黄秀章则是中芯国外集成电路制造(深圳)有限公司的监事。不错说,新凯来大鼓励层面的产业布景着实是荒谬深厚。
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